Contamination particulaire dans un réacteur LPCVD

Les rendements de production d'un dépôt CVD sont directement liés aux contaminations des substrats par des particules. La simulation du transport des particules dans les phases d'ouverture du réacteur, de pompage ou remontée en pression, permets de comprendre et maitriser le taux de contamination.

Simulation des flux de gaz et particules

Problème rencontré
Contamination des substrats par des particules solides , entraînant une baisse de productivité.

Objectif
Augmenter la productivité.

Solutions

Caractériser les phénomènes engendrant la contamination des substrats. La complexité du four et l’influence de la gravité (convection naturelle, poids des particules) impose une simulation 3D.
Optimisation des conditions de pompage et remplissage.

contamination des substrats par des particules solides

Ce type d'étude a été appliqué aux procédés «nitrure», «poly», «TeOs»

Cette étude a été réalisée en collaboration avec ADIXEN.

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